?html> 化工pL友林庆煌当选国际光学工E学会会?清华校友M

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化工pL友林庆煌当选国际光学工E学会会?/h2>
2017-03-06 | 来源 清华新闻|?017q??? |

2017q?月，清华大学化工pL友、美国国际商业机器公司托马斯·沃森研究院（IBMQThomas J. WatsonQ研I员林庆煌博士当?017q国际光学工E学会会士（SPIE FellowQ，q是其本人2014q当选美国化学会会士?015q当选美国化学会材料协会会士后获得的W三个会士称受?/span>

国际光学工程学会QTheInternational Society for Optical and Photonics EngineeringQSPIEQ成立于1955q_是一个致力于光学、光子学、光?sh)子学、成像、图像处理等领域的知识收集、传播、交和应用的非赢利性国际专业学术学会。学会拥?64000名会员，遍布全球166个国家。国际光学工E学会会士（SPIE FellowQ是其设立的荣誉U号Q用于表彰在光学、光子学、成像科学等多学U交叉领域取得杰出科研成、ƈ为光学领域特别是为学会做出卓A献的会员?/span>

?955q国际光学工E学会创立以来，共有1000多名会员当选ؓ会士?017q_学会新增会士71名，林庆煌博士因在集成电(sh)路制造光L料和工艺领域的突A献而当选?017q??7日，在美国加州硅谷召开的国际先q光d术年会上Q林庆煌被正式授予学会会士铭牌?/span>

2?7日，学会总裁金·阿瑟斯（Eugene ArthursQ博士（左）Q年会主席、美国罗L特工学院布鲁斯·史密斯QBruceSmithQ教授（叻I共同为林庆煌博士Q中Q颁发铭牌?/span>

林庆煌从事集成电(sh)路研I二十余q_曾主持或参与0.25微米?U米十几代计机CMOS逻辑芯片、动态随机存储器QDRAMQ芯片、磁性随机存储器QMRAMQ芯片的探烦研发Q具有研I、开发、工E、管理和技术战略决{的丰富l验。个人拥?4美国专利，获得国国际商业机器公司26Ҏ(gu)出发明成奖Q曾获公司发明大师称?IBM Master Inventor)?002q_因研发出248U米双层光刻胶技术，获得公司技术成奖。该技术作为四十年来美国国际商业机器公司对世界半导体行业的主要技术A献之一Q曾获得由ȝ颁发的美国最高技术奖—?004q美国国家技术勋章?015q和2016q_因其光刻技术成及在磁性随机存储器QMRAMQ芯片和先进逻辑芯片的应用，三次获得公司技术成奖。相x术被q泛用于生刉高端服务器及手Z的尖端芯片?/span>

q今已发表学术论?0余篇Q编辑出版专?部，学术会议论文?部。担d际学术期刊《微/U米光刻、微型制造及微系l技术》（Journal ofMicro/Nanolithography, MEMS, and MOEMSQ副ȝ和《材料研I杂志》（Journalof Materials ResearchQ客座主~?/span>

林庆煌于1980q考入清华大学化学工程p高分子专业Q于1985q?988q获得学士和士学位?990q进入美国密歇根大学材料p，1994q获博士学位?995q_在美国得克萨斯大学奥斯汀分校化工pL兰特·威尔（C. GrantWillsonQ院士研I组从事博士后工作?995q底Q进入美国国际商业机器公司工作至今。多q来Q一直活跃在国际化学、材料、半g{学术领域?016q担ȝ国化学会高分子材料协会主席，是该协会成立90余年来第一位华Z席。现Z国集成电(sh)路材料和雉件联盟特聘咨询专家?/span>

相关链接Q?/span>

http://spie.org/about-spie/fellows-and-senior-members/fellows

http://spie.org/about-spie/press-room/spie-advanced-lithography-2017-news-and-photos#.WLa5hDPTclo.twitter


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